中国电子科技集团公司第十一研究所科研楼工程

　　　中国电子科技集团公司第十一研究所科研楼工程位于北京市酒仙桥路4号，中国电子科技集团公司第十一研究所所区内，建筑等级为二类高层建筑，分为地上和地下部分（包含人防工程，等级为五级），耐火等级为一级。建筑内含有部分洁净室（十级、百级、超百级及千级），用于科研工作。是一座集科研、试验、办公于一体的综合性科研大楼。